Handelsregister · HRB 18425

Chronologischer Auszug

LIW GmbH Lohmarer Institut für Weiterbildung, Beratung und Training · Amtsgericht Siegburg

Entwicklung des Registerblatts

Eintragungen in zeitlicher Folge

Abrufstand 30.12.2024

Rot unterstrichene Angaben wurden im Register als nicht mehr gültig gekennzeichnet.

Nummer der Eintragunga) Firma b) Sitz, Niederlassung, inländische Geschäftsanschrift, empfangsberechtigte Person, Zweigniederlassungen c) Gegenstand des UnternehmensGrund- oder Stammkapitala) Allgemeine Vertretungsregelung b) Vorstand, Leitungsorgan, geschäftsführende Direktoren, persönlich haftender Gesellschafter, Geschäftsführer, Vertretungsberechtigte und besondere VertretungsbefugnisProkuraa) Rechtsform, Beginn, Satzung oder Gesellschaftsvertrag b) Sonstige Rechtsverhältnissea) Tag der Eintragung b) Bemerkungen
1a)
LIW GmbH Lohmarer Institut für
Weiterbildung, Beratung und Training

b)
Lohmar
Geschäftsanschrift:
Donrather Straße 44, 53797 Lohmar

c)
Die Beratung von Unternehmen bezogen
auf die
betriebliche und überbetriebliche Aus- und
Weiterbildung sowie die Organisation von
solchen Aus- und
Weiterbildungsmaßnahmen, die
Durchführung von betrieblichen und
außerbetrieblichen Aus- und
Weiterbildungsmaßnahmen, sonstige
Unternehmens- und
Organisationsberatung, die Durchführung
von Workshops aller Art sowie die
Durchführung von Einzel- und Team-
Coachingmaßnahmen.
25.000,00
EUR
a)
Ist nur ein Geschäftsführer bestellt, so vertritt er
die Gesellschaft allein. Sind mehrere
Geschäftsführer bestellt, so wird die Gesellschaft
durch zwei Geschäftsführer gemeinsam
vertreten.

b)
Geschäftsführer:
Alf-Jähnig, Rainer, Bonn, *XX.XX.XXXX
einzelvertretungsberechtigt mit der Befugnis im
Namen der Gesellschaft mit sich im eigenen
Namen oder als Vertreter eines Dritten
Rechtsgeschäfte abzuschließen.
a)
Gesellschaft mit beschränkter Haftung
Gesellschaftsvertrag vom 09.09.2024
a)
11.10.2024
Wilhelm

Die Darstellung wird aus den beim Handelsregister abgerufenen Angaben erzeugt. Sie ersetzt keinen amtlichen Registerauszug.